研磨剤及び研磨剤スラリー

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出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-094619
公開番号（公開出願番号）：特開2002-294220
特許番号：特許第4428495号
出願日： 2001年03月29日
公開日（公表日）： 2002年10月09日
請求項（抜粋）：

【請求項1】金属Si及び/又は亜酸化珪素の気相成分を酸化して得られた、水酸基濃度3〜10個/nm2で、実質的にストラクチャー構造を形成していない二酸化珪素微粉末のシランカップリング剤による表面処理物からなり、上記シランカップリング剤による表面処理量が、処理前後の炭素量増分として0.05〜1.0質量%であり、しかも上記シランカップリング剤が、γ-フェニルアミノプロピルトリメトキシシラン又はフェニルトリエトキシシランであることを特徴とする研磨剤。

IPC (3件)：