特許

J-GLOBAL ID：201103065298951558

基板処理装置

発明者： 上田 一成
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (2件)： 井上 俊夫 ,  水野 洋美
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-190320
公開番号（公開出願番号）：特開2001-023873
特許番号：特許第3635214号
出願日： 1999年07月05日
公開日（公表日）： 2001年01月26日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 基板を収納した複数の基板カセットを載置する載置部と、この載置部に載置された基板カセットに対して基板の受け渡しをする受け渡し手段と、を含むカセットステ-ションと、このカセットステ-ションに接続され、前記受け渡し手段により搬送された基板を処理する処理ステ-ションと、を有し、 前記処理ステ-ションは、前記載置部に載置された複数の基板カセットの配列方向と平行な方向に配列された複数の処理部と、 前記処理部の配列方向と平行な方向に配列され、前記処理部における処理の前処理及び/又は後処理を行うための複数の前後処理部を縦に配列した複数の棚部と、 前記棚部と前記処理部との間に、これらに対向するように前記処理部の配列方向と平行な方向に配列されると共に、鉛直軸まわりに回転自在、進退自在、昇降自在に構成された複数の基板搬送手段と、を備え、 前記基板搬送手段の少なくとも一つは、隣接する2個の処理部の両方又は隣接する2個の棚部の両方に対して基板の受け渡しができるように構成されていることを特徴とする基板処理装置。

IPC (1件)：

H01L 21/027

FI (1件)：

H01L 21/30 502 J

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 処理システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-265329   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-199937   出願人：大日本スクリーン製造株式会社