特許

J-GLOBAL ID：201103065426593929

軟磁性薄膜およびその製造方法、並びにその薄膜を用いた薄膜磁気ヘッド

発明者： 逢坂 哲彌 ,  横島 時彦 ,  清水 さなえ ,  田中 厚志
出願人/特許権者： 学校法人早稲田大学 ,  富士通株式会社
代理人 (2件)： 小島 隆司 ,  西川 裕子
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-066099
公開番号（公開出願番号）：特開2002-270426
特許番号：特許第4645784号
出願日： 2001年03月09日
公開日（公表日）： 2002年09月20日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 Co、Ni、FeおよびBを含有し、Co含有量が40〜80at%、Fe含有量が15〜40at%、Ni含有量が5〜20at%、B含有量が0.5〜5at%であり、飽和磁束密度が1.8T以上、保磁力が8Oe以下であって、無電解めっき法により形成されたことを特徴とする軟磁性薄膜。

IPC (4件)：

H01F 10/16 ( 200 6.01) ,  C23C 18/50 ( 200 6.01) ,  G11B 5/31 ( 200 6.01) ,  H01F 41/24 ( 200 6.01)

FI (4件)：

H01F 10/16 ,  C23C 18/50 ,  G11B 5/31 C ,  H01F 41/24

引用特許：

審査官引用 (2件)

• Co-Ni-Fe-B合金電気めっき薄膜の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-191894   出願人：住友金属工業株式会社
• 磁性薄膜および磁性多層膜ならびにそれらの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-062129   出願人：逢坂哲彌, ティーディーケイ株式会社

引用文献：

審査官引用 (1件)

• Electroless CoNiFeB soft magnetic thin films with high corrosion resistance