特許
J-GLOBAL ID：201103065435019186
高度不飽和脂肪酸誘導体の製造方法及び高純度エイコサペンタエン酸誘導体
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
酒井 一
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-328156
公開番号（公開出願番号）：特開2001-139981
特許番号：特許第4170542号
出願日： 1999年11月18日
公開日（公表日）： 2001年05月22日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 移動相として超臨界二酸化炭素、固定相としてシリカゲル、カラムとして単カラムを用いた超臨界クロマトグラフィーによって分離精製し、高度不飽和脂肪酸誘導体を製造する方法であって、(a)超臨界クロマトグラフィーに供する原料として、炭素数が同一で二重結合数が異なる高度不飽和脂肪酸又はそのアルキルエステルを含む混合物を用い、(b)固定相としてのシリカゲルが、粒径4.0〜25.0μm、細孔径0.005〜0.015μm、細孔容積0.65〜1.10ml/g、比表面積250〜650m2/gであり、且つ表面が化学修飾されておらず、(c)超臨界クロマトグラフィーの運転条件が、圧力100〜130kg/cm2、温度30〜60°C、線速度10〜70cm/分である、ことを特徴とする高度不飽和脂肪酸誘導体の製造方法。
IPC (6件)：
C11B 3/10 ( 200 6.01)
, C07C 51/47 ( 200 6.01)
, C07C 57/03 ( 200 6.01)
, C07C 67/56 ( 200 6.01)
, C07C 69/58 ( 200 6.01)
, B01D 15/08 ( 200 6.01)
C11B 3/10
, C07C 51/47
, C07C 57/03
, C07C 67/56
, C07C 69/58
, B01D 15/08
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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