特許
J-GLOBAL ID:201103065854295010

シキミ酸およびその誘導体の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 津国 肇 ,  篠田 文雄
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-127920
公開番号(公開出願番号):特開2000-026365
特許番号:特許第3641384号
出願日: 1999年05月10日
公開日(公表日): 2000年01月25日
請求項(抜粋):
【請求項1】 キナ酸誘導体からの脱水によるシキミ酸誘導体の製造方法であって、 下記式I:;;化1::(式中、R1は、水素またはカルボン酸保護基であり、R2とR3は、一緒になってアルキリデン基を表し、R4は、アシル基又はスルホン酸残基である)で表される化合物またはその塩をフィルスマイヤー試薬を用いて脱水することを特徴とする方法。
IPC (1件):
C07D 317/68
FI (1件):
C07D 317/68
引用特許:
審査官引用 (1件)

前のページに戻る