特許
J-GLOBAL ID:201103065961061375

半導体装置の製造方法及び半導体製造装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 堀口 浩
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-210551
公開番号(公開出願番号):特開2011-061073
出願日: 2009年09月11日
公開日(公表日): 2011年03月24日
要約:
【課題】半導体チップのCoC接続工程の時間短縮を実現することができ、半導体装置の製造工程のスループットを向上させる手段を提供する。【解決手段】ウエハステージ13上にバンプ電極15が上になるように半導体ウエハ14を載せ、バンプ電極16が下になるように仮圧着ヘッド11に半導体チップ2を吸着し、先ず、半導体ウエハ14のバンプ電極15と半導体チップ2のバンプ電極16を仮圧着する。その後、先に仮圧着した複数の半導体チップ2を本圧着ヘッド12で強く圧着する。【選択図】図5
請求項(抜粋):
ウエハステージと、 複数の圧着ヘッドと を備えたことを特徴とする半導体製造装置。
IPC (1件):
H01L 21/60
FI (1件):
H01L21/60 311T
Fターム (4件):
5F044PP15 ,  5F044PP16 ,  5F044PP19 ,  5F044RR02
引用特許:
審査官引用 (1件)

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