特許
J-GLOBAL ID:201103066304522989

プラズマ付着装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 谷 義一
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平1-160830
公開番号(公開出願番号):特開平3-028368
特許番号:特許第2832256号
出願日: 1989年06月26日
公開日(公表日): 1991年02月06日
請求項(抜粋):
【請求項1】ガスを導入してプラズマを発生させるプラズマ生成室と、膜形成すべき試料基板を配置するための試料台を配置した試料室と、前記プラズマ生成室と前記試料室との間に配置されプラズマをプラズマ流として前記プラズマ生成室から前記試料室に導入するためのプラズマ引出し窓と、スパッタリング材料で形成され前記プラズマ流を取り囲み前記プラズマ流と接するように配置されたターゲットとを具え、前記ターゲットをスパッタするためのイオンを、前記プラズマ流の一部から引出して前記ターゲットに入射させ、前記ターゲットのスパッタリングにより試料基板上に薄膜を付着、堆積させるプラズマ付着装置において、前記プラズマ引出し窓は、中央部が開孔をなし外周が前記プラズマ生成室の内周より小さいプラズマ遮断部が前記プラズマ生成室に固定されることによって、前記プラズマ流を前記試料台に導かれるプラズマ流と、前記ターゲットに導かれるプラズマ流とに分割する構造を有することを特徴とするプラズマ付着装置。
IPC (3件):
C23C 14/34 ,  H01L 21/31 ,  H01L 21/285
FI (3件):
C23C 14/34 T ,  H01L 21/31 C ,  H01L 21/285 S

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