成膜装置及び被処理体の処理方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：浅井章弘
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-365700
公開番号（公開出願番号）：特開2001-181845
特許番号：特許第4419237号
出願日： 1999年12月22日
公開日（公表日）： 2001年07月03日
請求項（抜粋）：

【請求項1】真空引き可能になされた処理容器と、この処理容器内に設置されてその上面の載置面に被処理体を載置する載置台と、前記載置台の周縁部に前記被処理体の外周端よりも僅かに外方へ離間させて設けられて前記被処理体の載置時にこれを適正な載置位置へ案内するリング状のガイドリング本体を有するガイドリング部材とよりなる成膜装置において、前記ガイドリング本体の内周側を断面段部状に形成することにより前記ガイドリング本体の下面と前記載置台の載置面との間でパーティクル発生防止空間を設けるように構成したことを特徴とする成膜装置。

IPC (3件)：