特許
J-GLOBAL ID:201103066719309512
研磨用ワーク保持盤およびワークの研磨装置ならびにワークの研磨方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
好宮 幹夫
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-033762
公開番号(公開出願番号):特開2000-233366
特許番号:特許第3623122号
出願日: 1999年02月12日
公開日(公表日): 2000年08月29日
請求項(抜粋):
【請求項1】ワークを真空吸着保持する多数の貫通孔を有するワーク保持盤本体および該保持盤本体の背面に密着し、真空用溝を有する保持盤裏板からなる研磨用ワーク保持盤において、該保持盤裏板の材質が合成樹脂であり、かつアスカーC硬度が70以上98未満であることを特徴とする研磨用ワーク保持盤。
IPC (2件):
FI (2件):
B24B 37/04 H
, H01L 21/304 622 H
引用特許:
出願人引用 (1件)
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CMP装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-038427
出願人:スピードファム株式会社
審査官引用 (1件)
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CMP装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-038427
出願人:スピードファム株式会社
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