DCスパッタリング装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：池内寛幸 , 佐藤公博
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-344631
公開番号（公開出願番号）：特開2001-164360
特許番号：特許第3685670号
出願日： 1999年12月03日
公開日（公表日）： 2001年06月19日
請求項（抜粋）：

【請求項1】減圧可能なチャンバー内に、カソードとして作用するターゲットおよびアノードを配置し、前記チャンバー内にガスを導入して、前記ターゲットおよびアノード間にDC電圧を印加することにより、前記ガスのプラズマを発生させ、前記チャンバー内に配置した基板上に前記ターゲットの材料からなる膜を堆積するように構成したDCスパッタリング装置において、前記アノードが、前記プラズマに暴露される面に溝部を有することを特徴とするDCスパッタリング装置。

IPC (1件)：