特許
J-GLOBAL ID:201103066795943115

シクロオレフィンの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-198766
公開番号(公開出願番号):特開2001-026556
特許番号:特許第4397468号
出願日: 1999年07月13日
公開日(公表日): 2001年01月30日
請求項(抜粋):
【請求項1】ルテニウム触媒、水及び硫酸亜鉛からなる酸性の触媒スラリーを用いて、単環芳香族炭化水素を水素により50〜250°Cで部分水添反応してシクロオレフィンを製造するに当たり、該部分水添反応の温度よりも20°C以上低い温度で流動する触媒スラリーが内部に存在する装置において、 該装置内部の触媒スラリーより高く、300°C以下の温度の熱媒で該装置の外部を加熱する操作を含み、 該装置は、下記のア、イ、ウの3工程からなる該触媒の活性賦活工程及びそれらの工程間に用いられる設備のうち少なくとも一部であることを特徴とするシクロオレフィンの製造方法。 ア:部分水添反応を行う反応器から触媒スラリーを抜き出して、触媒スラリーの圧力を10atm以下に落とす工程 イ:その落圧した触媒スラリーを1つ以上の容器内で触媒の活性賦活処理する工程 ウ:触媒の活性賦活処理を終えた触媒スラリーを再び部分水添反応を行う反応器へ戻す工程
IPC (6件):
C07C 5/11 ( 200 6.01) ,  C07C 13/20 ( 200 6.01) ,  B01J 23/46 ( 200 6.01) ,  B01J 27/053 ( 200 6.01) ,  B01J 35/02 ( 200 6.01) ,  C07B 61/00 ( 200 6.01)
FI (6件):
C07C 5/11 ,  C07C 13/20 ,  B01J 23/46 301 X ,  B01J 27/053 X ,  B01J 35/02 H ,  C07B 61/00 300
引用特許:
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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