特許
J-GLOBAL ID：201103067265089748
プラズマ処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
井上 学
, 戸田 裕二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-279035
公開番号（公開出願番号）：特開2011-124293
出願日： 2009年12月09日
公開日（公表日）： 2011年06月23日
要約：
【課題】より均一な処理を実現することができるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】真空容器内部の処理室に配置された試料台上に載せられたウエハをこの処理室内で形成をしたプラズマを用いて処理するプラズマ処理装置であって、前記真空容器の上部を構成し前記処理室を囲む誘電体性のベルジャと、このベルジャの外周に巻かれて配置され前記プラズマを形成するための高周波電力が供給されるコイル状のアンテナと、このアンテナと前記ベルジャとの間で内側と外側とで隙間をあけて二重に配置され各々が複数のスリットを有して所定の電位にされる導電体製のファラデーシールドとを備え、前記外側のファラデーシールドと前記内側ファラデーシールドとが各々のスリットが互い違いに覆う位置に配置された。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
真空容器内部の処理室に配置された試料台上に載せられたウエハをこの処理室内で形成をしたプラズマを用いて処理するプラズマ処理装置であって、
前記真空容器の上部を構成し前記処理室を囲む絶縁体製のベルジャと、このベルジャの外周に巻かれて配置され前記プラズマを形成するための高周波電力が供給されるコイル状のアンテナと、このアンテナと前記ベルジャとの間で内側と外側とで隙間をあけて二重に配置され各々が複数のスリットを有して所定の電位にされる導電体製のファラデーシールドとを備え、
前記外側のファラデーシールドと前記内側ファラデーシールドとが各々のスリットが互い違いに覆う位置に配置されたプラズマ処理装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (6件)：
5F004AA01
, 5F004AA13
, 5F004BA20
, 5F004BB13
, 5F004BB29
, 5F004CA06
