特許
J-GLOBAL ID:201103067391328090

コンデンサの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 岩橋 文雄 ,  坂口 智康 ,  内藤 浩樹
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-075224
公開番号(公開出願番号):特開2000-269087
特許番号:特許第3551070号
出願日: 1999年03月19日
公開日(公表日): 2000年09月29日
請求項(抜粋):
【請求項1】誘電体層を用意する工程と、前記誘電体層の少なくても一方にチオフェン誘導体と酸化剤を溶媒により溶解した混合溶液を塗布する工程と、前記混合溶液が塗布された誘電体層を前記溶媒の沸点以上に速やかに加熱することにより、前記溶媒を速やかに蒸発させ、前記チオフェン誘導体と前記酸化剤との化学重合により前記チオフェン誘導体を繰り返し単位として含む第1の導電性高分子層を形成する工程と、前記チオフェン誘導体をアニオン系界面活性剤により乳化した水媒体の電解液を用意する工程と、前記チオフェン誘導体を繰り返し単位として含む第2の導電性高分子層を電解重合により形成する工程とを備えたコンデンサの製造方法。
IPC (1件):
H01G 9/028
FI (2件):
H01G 9/02 331 H ,  H01G 9/02 331 G
引用特許:
審査官引用 (3件)

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