特許
J-GLOBAL ID:201103067446644794
シリコンワークピースを処理する装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (12件):
岡部 正夫
, 加藤 伸晃
, 産形 和央
, 臼井 伸一
, 藤野 育男
, 越智 隆夫
, 本宮 照久
, 高梨 憲通
, 朝日 伸光
, 高橋 誠一郎
, 吉澤 弘司
, 三俣 弘文
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-135599
公開番号(公開出願番号):特開2000-002597
特許番号:特許第3550315号
出願日: 1999年05月17日
公開日(公表日): 2000年01月07日
請求項(抜粋):
【請求項1】ワークピースの支持体と、紫外線光を含む偏光した光のビームをワークピース上へと照射する光源と、ワークピースから反射したビームを受けるスペクトル解析装置と、スペクトル解析装置から反射したビームのスペクトルを表す情報を受け、その情報からワークピースの温度を評価するコンピュータとを含むことを特徴とするシリコンワークピースを処理するための装置。
IPC (1件):
FI (1件):
引用特許:
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