レジスト材料及びパターン形成方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：奥山尚一 , 有原幸一 , 松島鉄男 , 河村英文
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-164044
公開番号（公開出願番号）：特開2002-363148
特許番号：特許第4044741号
出願日： 2001年05月31日
公開日（公表日）： 2002年12月18日
請求項（抜粋）：

【請求項1】下記一般式(1) (上式中、R1は同一又は異種の炭素数1〜4の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基、R2は同一又は異種の水素原子、又は炭素数1〜20の直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキル基であって、ヒドロキシ基、エーテル基、カルボニル基、エステル基、ラクトン環、カーボネート基、又はシアノ基を含んでいても良い。Rp、Rq、Rrは同一又は異種の炭素数1〜20の直鎖状、分岐状又は環状の炭化水素基であり、ヒドロキシ基、エーテル基、カルボニル基、エステル基、ラクトン環、カーボネート基、又はシアノ基を含んでいても良く、RpとRq、RpとRr、又はRqとRrがそれぞれ結合して環を形成していてもよい。aは1〜3の整数であり、bは0〜2の整数であり、かつa+b=3を満足する。) で表される塩基性化合物であって、下記amine4、 amine7、amine8及びamine9 からなる一群と、下記一般式(2) (上式中、R1'は炭素数1〜4の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基である。R4は炭素数2〜20のアルキレン基であるが、ヒドロキシ基、エーテル基、カルボニル基、エステル基、又はカーボネート基を含んでいても良い。Rp、Rq、Rrは同一又は異種の炭素数1〜20の直鎖状、分岐状若しくは環状の炭化水素基であり、ヒドロキシ基、エーテル基、カルボニル基、エステル基、ラクトン環、カーボネート基、又はシアノ基を含んでいても良く、RpとRq、RpとRr、又はRqとRrがそれぞれ結合して環を形成していてもよい。) で表される塩基性化合物であって、下記amine1、amine3、amine5、amine6及びamine 10 からなる一群とから選ばれる塩基性化合物の一種以上を含有するレジスト材料。

IPC (3件)：

G03F 7/004 ( 200 6.01) , G03F 7/038 ( 200 6.01) , G03F 7/039 ( 200 6.01)

FI (3件)：

G03F 7/004 501 , G03F 7/038 601 , G03F 7/039 601

引用特許：

出願人引用 (3件)

ジフルオロスタトン抗ウイルス剤
公報種別：公表公報出願番号：特願平8-505010 出願人：メリル・フアーマシユウテイカルズ・インコーポレイテツド
感放射線性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-148742 出願人：日本合成ゴム株式会社
レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-139097 出願人：富士写真フイルム株式会社

審査官引用 (3件)

ジフルオロスタトン抗ウイルス剤
公報種別：公表公報出願番号：特願平8-505010 出願人：メリル・フアーマシユウテイカルズ・インコーポレイテツド
感放射線性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-148742 出願人：日本合成ゴム株式会社
レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-139097 出願人：富士写真フイルム株式会社

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