特許

J-GLOBAL ID：201103068780786172

高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法

発明者： 西 恒寛 ,  金生 剛 ,  長谷川 幸士 ,  渡邊 聡 ,  名倉 茂広
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (2件)： 小島 隆司 ,  西川 裕子
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-277156
公開番号（公開出願番号）：特開2003-084438
特許番号：特許第4420169号
出願日： 2001年09月12日
公開日（公表日）： 2003年03月19日
請求項（抜粋）：

【請求項1】下記一般式(1)で示される繰り返し単位と下記一般式(2)で示される繰り返し単位とを含むことを特徴とする重量平均分子量1,000〜500,000の高分子化合物。 (式中、R1、R3は水素原子又はメチル基を示す。R2、R4は炭素数1〜15の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。R5、R6、R7、R8は水素原子又はR5とR7、R6とR8でトリメチレンもしくは1,3-シクロペンチレンを形成する原子団を示す。)

IPC (2件)：

C08F 220/18 ( 200 6.01) ,  G03F 7/039 ( 200 6.01)

FI (2件)：

C08F 220/18 ,  G03F 7/039 601

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-277966   出願人：ジェイエスアール株式会社
• アルキルビニールエーテルの共重合体を含む感光性ポリマー及びこれを含むレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-012171   出願人：三星電子株式会社
• 新規なエステル化合物、高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-307148   出願人：信越化学工業株式会社