特許
J-GLOBAL ID：201103068907374057

情報処理装置、その処理方法及びプログラム

発明者：
園田 哲理

園田 哲理 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (6件)： 大塚 康徳 ,  高柳 司郎 ,  大塚 康弘 ,  木村 秀二 ,  下山 治 ,  永川 行光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-053669
公開番号（公開出願番号）：特開2011-185872
出願日： 2010年03月10日
公開日（公表日）： 2011年09月22日
要約：
【課題】 被写体の三次元計測時に用いる投影パターンをより高い密度で投影できるようにした技術を提供する。【解決手段】 情報処理装置は、複数の計測線パターンと、当該複数の計測線パターンに対して複数の交点を有するとともに交点間の形状が特徴付けられる基準線パターンとを含むパターンデータを生成し、当該生成されたパターンデータに基づく投影パターン光が投影された被写体を撮像した撮像画像を入力し、当該撮像画像から交点を抽出し、撮像画像における基準線パターン上の交点間に特徴付けられた形状の一次元的又は二次元的な配置を示す情報を同定情報として取得し、当該同定情報に基づいてパターンデータにおける基準線パターンと撮像画像における基準線パターンとを対応付け、当該対応付け結果に基づいてパターンデータにおける計測線パターンと撮像画像における計測線パターンとを対応付ける。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
複数の計測線パターンと、該複数の計測線パターンに対して複数の交点を有するとともに該交点間の形状が特徴付けられる基準線パターンとを含むパターンデータを生成する生成手段と、 前記生成手段により生成された前記パターンデータに基づく投影パターン光が投影された被写体を撮像した撮像画像を入力する入力手段と、 前記入力手段により入力された前記撮像画像から前記交点を抽出する交点抽出手段と、 前記撮像画像における前記基準線パターン上の交点間に特徴付けられた形状の一次元的又は二次元的な配置を示す情報を同定情報として取得する取得手段と、 前記取得手段により取得された同定情報に基づいて前記パターンデータにおける基準線パターンと前記撮像画像における基準線パターンとを対応付け、当該対応付け結果に基づいて前記パターンデータにおける計測線パターンと前記撮像画像における計測線パターンとを対応付ける対応付け手段と を具備することを特徴とする情報処理装置。
IPC (1件)：
G01B 11/25
FI (1件)：
G01B11/25 H
Fターム (13件)：
2F065AA53 ,  2F065FF01 ,  2F065FF02 ,  2F065FF09 ,  2F065HH06 ,  2F065HH07 ,  2F065HH12 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ08 ,  2F065LL41 ,  2F065QQ00 ,  2F065QQ27 ,  2F065QQ41
引用特許：
審査官引用 (4件)
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