特許
J-GLOBAL ID：201103069364455627
ハイドロフォーミング装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
長島 悦夫
, 井上 一
, 布施 行夫
, 大渕 美千栄
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-360966
公開番号（公開出願番号）：特開2002-160023
特許番号：特許第3756399号
出願日： 2000年11月28日
公開日（公表日）： 2002年06月04日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 相対的に離隔接近可能な上型と下型とが密着状態において協働形成するキャビティ内に収容されかつ両端部が閉塞された状態の管状素材内に注入された液圧を利用してキャビティ内の形状と管状素材内の仕上用液圧値とに応じた仕上フォーミングを施すハイドロフォーミング装置において、
前記下型と前記上型とが非密着状態中で前記下型側の前記キャビティ内に保持されかつ両端部が閉塞された状態の管状素材内に液圧を注入して当該管状素材内に前記仕上用液圧値以下の予圧液圧値を確立可能かつこの予圧液圧値の確立後に前記上型と前記下型とを密着させる方向に相対接近させつつ当該管状素材に前段階的な予備フォーミングを実行可能に形成し、
この予備フォーミング期間中に相対接近する前記上型と前記下型との相対距離の減少に応じて上昇する当該管状素材内の液圧値を強制的に抑制しつつ設定液圧値に調整可能に形成し、
管状素材内に液圧を注入するための液圧注入装置をシリンダおよびピストンを含むシリンダ装置から構成し、検出されたピストン位置をフィードバック信号とした位置制御系によりピストンの現在位置を調整することで管状素材内の液圧値を前記仕上用液圧値に合わせるように制御可能であるとともに、検出された管状素材内の液圧値をフィードバック信号とした液圧制御系によりピストンの現在位置を調整することで予備フォーミング中の管状素材内の液圧値を設定液圧値に合わせるように制御可能に形成されている、ことを特徴とするハイドロフォーミング装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
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