特許
J-GLOBAL ID:201103069463856056

高純度シリコーンラダーポリマーの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 朝日奈 宗太 ,  佐木 啓二
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-102716
公開番号(公開出願番号):特開2001-288267
特許番号:特許第3679972号
出願日: 2000年04月04日
公開日(公表日): 2001年10月16日
請求項(抜粋):
【請求項1】ナトリウム、カリウム、鉄、銅、鉛、マグネシウム、マンガンおよび塩素の各含有量が1ppm以下であり、ウランおよびトリウムの各含有量が1ppb以下である一般式(1):;;化1::(式中、R1およびR2は、フッ素原子、水素原子、低級アルキル基、アルケニル基、アリール基、水素原子の一部もしくは全てがフッ素原子に置換された低級アルキル基、水素原子の一部もしくは全てがフッ素原子に置換されたアルケニル基、または、水素原子の一部もしくは全てがフッ素原子に置換されたアリール基であって、同種でも異種でもよく、R3、R4、R5およびR6は、水素原子、低級アルキル基、または、水素原子の一部もしくは全てがフッ素原子に置換された低級アルキル基であって、同種でも異種でもよく、nは5〜10000の自然数を示す)で表わされる高純度シリコーンラダーポリマーの製造方法であって、(a)一種または二種以上のオルガノシラン化合物を有機溶媒に溶解させて、超純水を用いて加水分解してプレポリマーを得る工程、(b)得られたプレポリマーを超純水により洗浄する工程、および(c)洗浄したプレポリマーを有機溶媒に溶解させて、触媒の不存在下で加熱する工程を有することを特徴とする高純度シリコーンラダーポリマーの製造方法。
IPC (4件):
C08G 77/06 ,  C08G 77/24 ,  H01L 21/312 ,  H01L 21/316
FI (4件):
C08G 77/06 ,  C08G 77/24 ,  H01L 21/312 C ,  H01L 21/316 G
引用特許:
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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