特許
J-GLOBAL ID：201103069746711941

高周波用磁器組成物および高周波用磁器並びにその製造方法

発明者：
寺師 吉健

寺師 吉健 について

, 
川井 信也

川井 信也 について


出願人/特許権者：
京セラ株式会社

京セラ株式会社 について


公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-050311
特許番号：特許第3085669号
出願日： 1999年02月26日
請求項（抜粋）：
【請求項1】SiO2、Al2O3、MgOおよびCaOを含み、ディオプサイド型酸化物結晶相を析出可能なガラスを50〜95重量%と、クォーツおよび/またはアモルファスシリカを合量で5〜49.9重量%と、MgO、MgCO3、Mg(OH)2およびMgとSiとの複合酸化物の群から選ばれる少なくとも1種をMgO換算量で0.1〜20重量%との割合で含有することを特徴とする高周波用磁器組成物。
IPC (6件)：
C04B 35/16 ,  C03C 10/14 ,  C04B 35/20 ,  H01B 3/08 ,  H01L 23/08 ,  H01L 23/15
FI (6件)：
C04B 35/16 Z ,  C03C 10/14 ,  C04B 35/20 ,  H01B 3/08 A ,  H01L 23/08 C ,  H01L 23/14 C
引用特許：
審査官引用 (3件)

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