特許
J-GLOBAL ID：201103070328060118

近接露光装置及び近接露光方法

発明者：
桝添 敦

桝添 敦 について


出願人/特許権者：
日本精工株式会社

日本精工株式会社 について


代理人 (3件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-030328
公開番号（公開出願番号）：特開2011-164542
出願日： 2010年02月15日
公開日（公表日）： 2011年08月25日
要約：
【課題】装置の状態変化に関わらず空運転を行って、タクトロスの発生を防止しつつ、安定した露光精度を提供することができる近接露光装置及び近接露光方法を提供する。【解決手段】露光装置PEは、露光されるべき基板Wが第1又は第2基板ステージ11,12に供給されるかどうかを検出し、露光されるべき基板Wの供給が停止したとき、少なくとも第1又は第2基板ステージ11,12の空運転を行う。【選択図】図7
請求項（抜粋）：
マスクを保持するマスクステージと、該マスクステージの下方に位置する露光位置に基板を保持可能な基板ステージと、前記基板ステージの露光位置に保持された基板に、パターン露光用の光を前記マスクを介して照射する照射装置と、を備える近接露光方法であって、 露光されるべき基板が前記基板ステージに供給されるかどうかを検出する工程と、 前記露光されるべき基板の供給が停止したとき、少なくとも前記基板ステージの空運転を行う工程と、 を有することを特徴とする近接露光方法。
IPC (1件)：
G03F 7/20
FI (1件)：
G03F7/20 501
Fターム (5件)：
2H097BA02 ,  2H097BA10 ,  2H097DB07 ,  2H097GA45 ,  2H097LA12
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (6件)
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