特許
J-GLOBAL ID：201103070409211234
処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
渡辺 敬介
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-110283
公開番号（公開出願番号）：特開2000-303183
特許番号：特許第3652166号
出願日： 1999年04月19日
公開日（公表日）： 2000年10月31日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基体または膜を処理するための処理空間と該処理空間を排気するための排気手段とを有する処理装置であって、前記処理空間と前記排気手段とを連絡する排気経路中に、上記処理空間から排気される未反応ガス及び副生成物の少なくとも一方に化学反応を起こさせるための化学反応生起手段を有し、該化学反応生起手段が、少なくともクロム、モリブデン、タングステン、バナジウム、ニオブ、タンタル、チタン、ジルコニウム、ハフニウムのいずれかを母体材料として形成され、リン原子を含む発熱体から構成されていることを特徴とする処理装置。
IPC (5件)：
C23C 16/44
, C23F 4/00
, H01L 21/205
, H01L 21/3065
, H01L 21/31
C23C 16/44 E
, C23C 16/44 J
, C23F 4/00 A
, H01L 21/205
, H01L 21/31 C
, H01L 21/302 B
