特許
J-GLOBAL ID:201103070429019445

二酸化塩素剤と超音波照射とを併用した除菌方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 角田 嘉宏 ,  古川 安航 ,  阪本 英男
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-031089
公開番号(公開出願番号):特開2002-233344
特許番号:特許第3649672号
出願日: 2001年02月07日
公開日(公表日): 2002年08月20日
請求項(抜粋):
【請求項1】 二酸化塩素を含有する二酸化塩素剤の存在下に、除菌対象物に超音波を照射する除菌方法であって、前記二酸化塩素は、前記二酸化塩素剤を有機酸類、鉱物酸類、過酸化水素及びアルコール類から選択される活性化剤により二酸化塩素の発生を活性化した二酸化塩素剤から発生することを特徴とする除菌方法。
IPC (5件):
A23L 3/358 ,  A23B 4/015 ,  A23B 4/027 ,  A23B 7/153 ,  A23L 3/30
FI (5件):
A23L 3/358 ,  A23L 3/30 ,  A23B 4/00 B ,  A23B 4/02 D ,  A23B 7/156
引用特許:
審査官引用 (2件)

前のページに戻る