特許
J-GLOBAL ID：201103070481674370
パルス荷電ガス処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
北村 修一郎
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-001977
公開番号（公開出願番号）：特開2000-197834
特許番号：特許第3630577号
出願日： 1999年01月07日
公開日（公表日）： 2000年07月18日
請求項（抜粋）：
【請求項1】高電圧パルス荷電によりプラズマを発生させてガス中のダスト、有害ガス等の除去を行うガス処理部と、前記ガス処理部に高電圧パルスを印加するパルス電源部と、前記ガス処理部で処理される処理ガスの属性及び処理量に基づいて前記パルス電源部から前記ガス処理部に注入される注入電力基準値を設定する注入電力基準値設定部と、前記ガス処理部に印加される前記高電圧パルスのピーク電圧値とピーク電流値を検出する電流電圧検出部と、前記電流電圧検出部が検出したピーク電圧値とピーク電流値に基づいて実注入電力を求め、その実注入電力と前記注入電力基準値設定部で設定された前記注入電力基準値とを比較して、実注入電力が前記注入電力基準値となるように前記パルス電源部の出力パルスの適正周波数を決定する適正周波数決定部と、前記適正周波数決定部で決定された前記適正周波数に基づいて前記パルス電源部の出力パルスの周波数を可変制御する周波数可変制御部とを備えてなるパルス荷電ガス処理装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
前のページに戻る
