特許
J-GLOBAL ID：201103070513537990
物質の精密構造解析方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (17件)：
社本 一夫
, 増井 忠弐
, 小林 泰
, 千葉 昭男
, 富田 博行
, 桜井 周矩
, 社本 一夫
, 小野 新次郎
, 小林 泰
, 千葉 昭男
, 富田 博行
, 桜井 周矩
, 神田 藤博
, 田中 英夫
, 細川 伸哉
, 深澤 憲広
, 平山 晃二
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-376969
公開番号（公開出願番号）：特開2003-177106
特許番号：特許第3891338号
出願日： 2001年12月11日
公開日（公表日）： 2003年06月27日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 分子量が少なくとも2000以上からなる高分子材料の結晶構造解析に対して、マキシマム・エントロピー法を適用するに当たって、
事前の電子密度分布または原子核密度分布としての均一な電子密度分布または原子核密度分布として、X線回折手段を用いる電子密度分布または中性子回折手段を用いる原子核密度分布を用い、マキシマム・エントロピー法にもとづく逐次解法を行い、精密な電子密度分布または原子核密度分布を求める際に、
前記いずれかの密度分布の精密化は、事前のX線回折データ又は中性子回折データから実験的に得られた結晶構造因子と、マキシマム・エントロピー法により得られた前記いずれかの密度分布から計算された結晶構造因子との差が、所定の許容範囲に収まるまで前記いずれかの密度分布を逐次解法を繰り返して行い、且つ
前記電子密度分布または原子核密度分布の精密化を実施する際には、連続的な電子密度分布または原子核密度分布を離散化した状態で情報処理し、前記情報処理は並列処理を行うことによる、前記高分子材料のもつ機能を解明する精密構造解析方法において、
事前に設定した観測結晶構造因子の位相(結晶の対称性)とマキシマム・エントロピー法による電子密度分布または原子核密度分布から得られた結晶構造因子の位相が異なる場合があることから、前記電子密度分布または原子核密度分布の精度を高めるために、入力設定データの位相の精密化を行う際に、その際の精密化の方法が、
(1)事前に設定した初期位相を用いたX線回折データから実験的に得られた観測結晶構造因子でマキシマム・エントロピー法による電子密度分布または原子核密度分布を求め、
(2)求められたマキシマム・エントロピー法の電子密度分布または原子核密度分布からマキシマム・エントロピー法の結晶構造因子を計算し、新しい位相を得て、
(3)観測構造因子の位相をマキシマム・エントロピー法の電子密度分布または原子核密度分布から新たに得られた位相に更新し、
(4)位相更新された観測結晶構造因子で、マキシマム・エントロピー法の電子密度分布または原子核密度分布を再び得て、
(5)実験的に得られた観測結晶構造因子と、マキシマム・エントロピー法により得られた電子密度分布または原子核密度分布から計算された結晶構造因子とにおいて、許容差の範囲内に収まるまで、前記計算フローを繰り返して行うことであり、
前記位相の精密化のプロセスにおいては、位相を更新する前のマキシマム・エントロピー法の解析で得られた電子密度または原子核密度から逐次解法を行う場合と、位相の更新ごとに一様な電子密度または原子核密度から逐次解法を行う場合と、および、それら双方を組み合わせる場合とにより、高分子材料に含まれる分子の原子位置、電子密度での電子結合状態または原子核密度を含めた高分子材料の結晶構造を明らかにし、求めた構造にもとづいて、前記高分子材料のもつ機能を解明することを特徴とした、前記方法。
IPC (2件)：
G01N 23/20 ( 200 6.01)
, G06F 17/50 ( 200 6.01)
