特許
J-GLOBAL ID：201103070583131673
基板の処理方法及びその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-273031
公開番号（公開出願番号）：特開2001-102346
特許番号：特許第4475705号
出願日： 1999年09月27日
公開日（公表日）： 2001年04月13日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 回転する基板に対して種類の異なる複数の処理液をノズル体から順次供給することで上記基板を処理する基板の処理方法において、
上記ノズル体より上記基板に硫酸と過酸化水素水を混合した第1の処理液を供給した後、この第1の処理液の硫酸濃度を低下させてから、リンス用の第2の処理液を上記ノズル体より上記基板に供給することを特徴とする基板の処理方法。
IPC (1件)：
FI (2件)：
H01L 21/304 648 G
, H01L 21/304 643 A
