特許
J-GLOBAL ID：201103070802652323
チオフェン化合物の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
入山 宏正
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-050768
公開番号（公開出願番号）：特開2011-184352
出願日： 2010年03月08日
公開日（公表日）： 2011年09月22日
要約：
【課題】機能性材料等を製造する際の原料として有用なチオフェン化合物を簡便に且つ収率良く得ることができる方法を提供する。【解決手段】遷移金属触媒の存在下で、特定のジアセタール化合物に硫黄を反応させて、チオフェン化合物を得た。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
遷移金属触媒の存在下で、下記の化1又は化2で示されるジアセタール化合物に硫黄を反応させて、下記の化3又は化4で示されるチオフェン化合物を得ることを特徴とするチオフェン化合物の製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (10件)：
4C071AA01
, 4C071BB01
, 4C071CC12
, 4C071CC21
, 4C071EE13
, 4C071FF16
, 4C071KK01
, 4C071LL10
, 4H039CA42
, 4H039CD40
