プラズマ処理装置

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (2件)：稲岡耕作 , 川崎実夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-156535
公開番号（公開出願番号）：特開2001-338918
特許番号：特許第4504511号
出願日： 2000年05月26日
公開日（公表日）： 2001年12月07日
請求項（抜粋）：

【請求項1】被処理物および処理ガスが収容される処理空間にマイクロ波放射アンテナからマイクロ波を放射して、前記マイクロ波放射アンテナのマイクロ波放射面から所定距離だけ離れたプラズマ励起面でプラズマを励起し、その励起したプラズマを用いた処理を被処理物に施すプラズマ処理装置であって、前記マイクロ波放射面に対向して誘電体が設けられており、前記誘電体は、前記マイクロ波放射面に対向する第1面と、この第1面とは反対側の第2面とを有し、マイクロ波の波長を単位として表す前記マイクロ波放射面と前記誘電体の前記第2面との間隔Dが、空気中におけるマイクロ波の波長λ0、前記マイクロ波放射面と前記誘電体の前記第1面との間の距離d1、前記第1面と前記第2面との間の前記誘電体の厚さd2、および前記誘電体の比誘電率εrを用いて、D=(d1+d2√(εr))/λ0と表され、この間隔Dが、 0.7×n/4≦D≦1.3×n/4(ただし、nは自然数。) の範囲に定められており、前記マイクロ波放射アンテナは、マイクロ波を放射するための多数のスロットペアがマイクロ波放射面に同心円状に配列して形成されたラジアルラインスロットアンテナであり、前記処理空間内に発生するプラズマが面内均一となるように、最外周に配列された複数のスロットペアの一部が塞がれていることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/31 ( 200 6.01) , C23C 16/511 ( 200 6.01) , C23F 4/00 ( 200 6.01) , H01L 21/3065 ( 200 6.01) , H05H 1/46 ( 200 6.01)

FI (5件)：

H01L 21/31 A , C23C 16/511 , C23F 4/00 A , H01L 21/302 101 D , H05H 1/46 B

引用特許：

出願人引用 (3件)

マイクロ波励起プラズマ装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-058677 出願人：株式会社東芝
プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-339519 出願人：株式会社日立製作所, 株式会社日立エンジニアリングサービス
特開平4-276067

審査官引用 (2件)

マイクロ波励起プラズマ装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-058677 出願人：株式会社東芝
プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-339519 出願人：株式会社日立製作所, 株式会社日立エンジニアリングサービス

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