特許
J-GLOBAL ID：200903039222273373

マイクロ波励起プラズマ装置

発明者：
山内 健資

山内 健資 について

, 
青木 克明

青木 克明 について

, 
山華 雅司

山華 雅司 について


出願人/特許権者：
株式会社東芝

株式会社東芝 について


代理人 (1件)： 外川 英明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-058677
公開番号（公開出願番号）：特開平10-255999
出願日： 1997年03月13日
公開日（公表日）： 1998年09月25日
要約：
【要約】【課題】 マイクロ波出力及び圧力共に広い範囲で安定したプラズマをプラズマ生成室内に均一に発生することが可能なマイクロ波励起プラズマ処理装置を提供するものである。【解決手段】 上部にプラズマ生成室、およびこのプラズマ生成室の下方に形成され、被処理部材が配置される処理室を有するチャンバと、プラズマ生成室内に処理ガスを供給するためのガス供給管と、チャンバの上壁部の開口に配置された誘電体窓と、誘電体窓を含むチャンバの上壁部に配置され、マイクロ波の電界方向に垂直な面(H面)が誘電体窓に対向し、マイクロ波の電界方向に平行な面(E面)がH面に対して垂直方向に伸び、かつマイクロ波導入側と反対側にH面およびE面に対して垂直に設けられたマイクロ波を反射する反射面を有する矩形状の導波管とを具備し、誘電体窓は、その厚みをマイクロ波の波長の半波長のn/2倍(nは整数)としたことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
マイクロ波を発振するマイクロ波発振器と、上部にプラズマ生成室、およびこのプラズマ生成室の下方に形成され、被処理部材が配置される処理室を有するチャンバと、前記プラズマ生成室内に処理ガスを供給するためのガス供給管と、前記チャンバの上壁部の開口に配置された誘電体窓と、前記誘電体窓を含む前記チャンバの上壁部に配置され、マイクロ波の電界方向に垂直な面(H面)が前記誘電体窓に対向し、マイクロ波の電界方向に平行な面(E面)が前記H面に対して垂直方向に伸び、かつマイクロ波導入側と反対側に前記H面およびE面に対して垂直に設けられたマイクロ波を反射する反射面を有する矩形状の導波管と、を具備し、前記誘電体窓は、その厚みをマイクロ波の波長の半波長のn/2倍(nは整数)としたことを特徴とするマイクロ波励起プラズマ処理装置。
IPC (2件)：
H05H 1/46 ,  H01L 21/3065
FI (2件)：
H05H 1/46 B ,  H01L 21/302 B
引用特許：
審査官引用 (14件)
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