特許
J-GLOBAL ID：201103071319911535
フォトマスク用ガラス基板生成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
金山 聡
, 深町 圭子
, 伊藤 英生
, 藤枡 裕実
, 後藤 直樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-009986
公開番号（公開出願番号）：特開2011-148026
出願日： 2010年01月20日
公開日（公表日）： 2011年08月04日
要約：
【課題】 表面にキズがある素ガラス状態のガラス基板を、フォトマスクの基材として適用できる素ガラス状態のガラス基板として生成する、フォトマスク用ガラス基板生成方法を提供する。特に、フォトマスクやフォトマスク作製途中の基板におけるガラス基板の表面にキズがある場合において、フォトマスク作製用の素ガラス状態のガラス基板として再生する際に、再生された素ガラスの品質を維持しつつ、生産性を向上する。【解決手段】 順に、(a)前記表面のキズの深さを測定する工程と、(b)縦軸ロータリー研削加工方法により、キズを取るための全面研削を行う研削工程と、(c)鏡面仕上げとするためのポリッシング工程とを、行う。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
表面にキズがある素ガラス状態のガラス基板を、フォトマスクの基材として適用できる素ガラス状態のガラス基板として生成する、フォトマスク用ガラス基板生成方法であって、フォトマスクやフォトマスク作製途中の基板を素ガラス状態のガラス基板とした後に、順に、(a)前記表面のキズの深さを測定する工程と、(b)縦軸ロータリー研削加工方法により、キズを取るための全面研削を行う研削工程と、(c)鏡面仕上げとするためのポリッシング工程とを、行うことを特徴とするフォトマスク用ガラス基板生成方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (8件)：
3C043BA03
, 3C043BA07
, 3C043BB05
, 3C043CC04
, 3C043EE04
, 4G059AA01
, 4G059AB03
, 4G059AC03
