特許
J-GLOBAL ID:201103071353370977

ワークの清浄方法及びその装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 安田 敏雄
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-146920
公開番号(公開出願番号):特開2000-336492
特許番号:特許第3930662号
出願日: 1999年05月26日
公開日(公表日): 2000年12月05日
請求項(抜粋):
【請求項1】 真空チャンバー(1)内で、電子源であるフィラメント(9)から不活性ガスに対して電子を放出することによりイオンを発生させ、この発生したイオンをワーク(7)の表面に衝突させて、ワーク(7)の表面を清浄化するようにしたワークの清浄方法において、 前記ワーク(7)を回転軸心廻りに回転するように回転テーブル(6)上に載置しておくと共に、真空チャンバー(1)内に、前記フィラメント(9)を、ワーク(7)に対向して長い範囲に設け、前記ワーク(7)の回転軸心方向と一致する前記ワーク(7)の長手方向に長く配置しておき、真空チャンバー(1)内で前記フィラメント(9)から不活性ガスに対して電子を放出することにより、真空チャンバー(1)内にイオンを均一に発生させるようにしたことを特徴とするワークの清浄方法。
IPC (2件):
C23F 4/00 ( 200 6.01) ,  H01L 21/3065 ( 200 6.01)
FI (2件):
C23F 4/00 A ,  H01L 21/302 102
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (3件)

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