特許
J-GLOBAL ID：201103071378400781
記録材料の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岡田 正広
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-382551
公開番号（公開出願番号）：特開2003-182208
特許番号：特許第4006992号
出願日： 2001年12月17日
公開日（公表日）： 2003年07月03日
請求項（抜粋）：
【請求項1】基材上にプライマー層を有し、前記プライマー層上に多孔質構造のインク受容層を有する記録材料であって、前記基材が空洞含有ポリオレフィン系フィルムを含み、前記プライマー層が、エチレン酢酸ビニル共重合体、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエステルウレタン樹脂、ポリブチルアセテート樹脂、ポリビニルアセタール及びポリビニルブチラールから選ばれる樹脂を少なくとも含有し、前記インク受容層が、無機微粒子及び有機微粒子から選ばれる微粒子と、結着剤と、架橋剤とを含有し、インク受容層の単位面積当たりの重量が5g/m2 以上50g/m2 以下であり、記録材料の100°C、120分間の熱処理による加熱収縮率が-1%以上1%以下であり、且つ記録材料の全光線透過率が30%以下である記録材料を製造する方法であって、
空洞含有ポリオレフィン系フィルムを含む基材上に、プライマー層用塗工液を塗布、乾燥して、プライマー層を形成し、前記プライマー層上に、インク受容層用塗工液を乾燥後の単位面積当たりの重量が5g/m2 以上50g/m2 以下となるように塗布し、3kg/m以上30kg/m以下の張力下で走行させて、80°C以上120°C以下の温度で乾燥して、多孔質構造のインク受容層を形成して、100°C、120分間の熱処理による加熱収縮率が-1%以上1%以下である記録材料を製造する方法。
IPC (6件)：
B41M 5/00 ( 200 6.01)
, B41M 5/50 ( 200 6.01)
, B41M 5/52 ( 200 6.01)
, B05D 5/04 ( 200 6.01)
, B05D 7/04 ( 200 6.01)
, B41J 2/01 ( 200 6.01)
B41M 5/00 B
, B05D 5/04
, B05D 7/04
, B41J 3/04 101 Y
