特許
J-GLOBAL ID：201103071448202478
減圧室から又はガスから水を除去する方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石田 敬 (外5名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-141523
公開番号（公開出願番号）：特開2000-005552
特許番号：特許第3510986号
出願日： 1999年05月21日
公開日（公表日）： 2000年01月11日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 反応室中、乾燥ガス流れ下で又は500mバールよりも低い圧力で操作して、温度70〜200°Cの範囲で、ホウ酸分解により、酸化ホウ素を生成し、そして生成した酸化ホウ素を、水を除去すべき減圧空間又はガスに接触させる工程を含む、減圧室から又はガスから水を除去する方法。
IPC (4件)：
B01D 53/26 101
, B01D 53/28
, B01J 20/02
, C01B 35/10
B01D 53/26 101 Z
, B01D 53/28
, B01J 20/02 B
, C01B 35/10 Z
