特許
J-GLOBAL ID：201103072431761216

基板処理装置

発明者：
高橋 和浩

高橋 和浩 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 福島 祥人
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-164069
公開番号（公開出願番号）：特開2000-353654
特許番号：特許第3657819号
出願日： 1999年06月10日
公開日（公表日）： 2000年12月19日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板を保持する基板保持手段と、 前記基板保持手段を回転させる回転駆動手段と、 前記基板保持手段に保持された基板に処理液を吐出する処理液吐出ノズルと、 前記処理液吐出ノズルを前記基板保持手段に保持された基板の上方の吐出位置と前記基板の上方から外れた待機位置とに移動させる移動手段と、 前記吐出位置にある前記処理液吐出ノズルを移動させることにより前記吐出位置を調整する調整手段と、 前記回転駆動手段による前記基板保持手段の回転動作、前記移動手段による前記処理液吐出ノズルの移動動作、前記処理液吐出ノズルからの処理液の吐出動作および前記調整手段による前記吐出位置の調整動作を制御する制御手段と、 前記回転駆動手段による前記基板保持手段の回転動作、前記移動手段による前記処理液吐出ノズルの移動動作、および前記処理液吐出ノズルからの処理液の吐出動作を前記制御手段に指令するとともに、前記処理液吐出ノズルからの処理液の吐出動作中に前記調整手段による前記吐出位置の調整動作を前記制御手段に指令するための操作パネルとを備えたことを特徴とする基板処理装置。
IPC (7件)：
H01L 21/027 ,  B05C 5/00 ,  B05C 11/08 ,  G03F 7/16 ,  G03F 7/30 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/306
FI (8件)：
H01L 21/30 564 C ,  B05C 5/00 101 ,  B05C 11/08 ,  G03F 7/16 502 ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/304 643 A ,  H01L 21/30 569 C ,  H01L 21/306 R
引用特許：
出願人引用 (6件)
  • 回転式基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-188829   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • 特開平4-305270
  • 特開平4-300675
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審査官引用 (2件)
  • 回転式基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-188829   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • 特開平4-305270

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