特許

J-GLOBAL ID：201103073446652380

ガス透過層積層体およびガス透過層積層体を用いた部品

発明者： 西條 謹二 ,  吉田 一雄 ,  大澤 真司
出願人/特許権者： 東洋鋼鈑株式会社
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-386276
公開番号（公開出願番号）：特開2003-181237
特許番号：特許第3657910号
出願日： 2001年12月19日
公開日（公表日）： 2003年07月02日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 高分子素材からなる基体にガス透過層を積層してなる積層体と、支持体とを積層してなるガス透過層積層体であって、積層体のガス透過層と支持体の接合面において、不活性ガス雰囲気中でグロー放電を行わせて、接合されるそれぞれの面をスパッタエッチング処理による活性化処理した後、活性化処理面同士が対向するように当接して重ね合わせて、冷間圧接により積層接合してなることを特徴とするガス透過層積層体。

IPC (7件)：

B01D 53/22 ,  B01D 67/00 ,  B01D 69/12 ,  B01J 19/08 ,  B32B 31/22 ,  C01B 3/56 ,  H01M 8/06

FI (7件)：

B01D 53/22 ,  B01D 67/00 500 ,  B01D 69/12 ,  B01J 19/08 G ,  B32B 31/22 ,  C01B 3/56 Z ,  H01M 8/06 G

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 水素ガス分離ユニット
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-099674   出願人：東洋鋼鈑株式会社, 東京瓦斯株式会社
• 水素分離膜及びその製作方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-105677   出願人：三菱重工業株式会社