特許
J-GLOBAL ID：201103073914370036
半導体製造装置の清掃時期判断方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-289304
公開番号（公開出願番号）：特開2002-099323
特許番号：特許第3691371号
出願日： 2000年09月22日
公開日（公表日）： 2002年04月05日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 プラズマ放電時間に対応してエッチング終点判定装置により測定したエッチング時間が、処理室の清掃のための大気開放後に徐々に変化する半導体製造装置の清掃時期判断方法において、 前記半導体製造装置は定期診断処理装置を備えており、 前記定期診断処理装置により定期的に前記半導体製造装置のエッチング時間の変動を診断し、該エッチング時間の変動に基づいてプラズマクリーニングの時期を判断しプラズマクリーニングを実施する、ことを特徴とする半導体製造装置の清掃時期判断方法。
IPC (3件)：
G05B 23/02
, H01L 21/02
, G06F 13/00
G05B 23/02 T
, G05B 23/02 301 V
, H01L 21/02 Z
, G06F 13/00 351 N
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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