変位測定装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：西村教光
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-086262
公開番号（公開出願番号）：特開2000-283713
特許番号：特許第4112112号
出願日： 1999年03月29日
公開日（公表日）： 2000年10月13日
請求項（抜粋）：

【請求項1】測定対象面上にあてる照射光を走査し、受光素子の受光面上に形成された結像点の検出位置に基づき、前記測定対象面の変位量を非接触で測定する変位測定装置において、照射光を屈曲させて一定の振り幅で走査させる偏向装置を備え前記走査した照射光を前記測定対象面上に照射して照射点を形成する投光手段と、前記照射点からの測定光を受光素子の受光面上で受光して結像点を形成する受光手段とを有し、該受光手段は、光軸廻りに均等な結像特性を有する複数の集光レンズ部が前記照射光の走査方向に沿って構成され、前記測定光を収束させるレンズアレイと、光軸廻りに均等な結像特性を有し、前記収束された測定光を前記受光面上に前記結像点を形成させる結像レンズを備え、前記受光素子の受光面には、前記照射光の走査に対応した該受光面上での光の移動方向両端部であって応答性の劣る部分に、前記受光手段による前記光の集束特性に応じて予め設定される隣接した結像点のスポット間隔に対応した所定幅の開口範囲内で前記光の結像点を形成させ、前記スポット間隔を越えた箇所に対応する前記受光面の端部位置では前記光を遮蔽するマスク部が形成されていることを特徴とする変位測定装置。

IPC (2件)：

G01B 11/00 ( 200 6.01) , G01C 3/06 ( 200 6.01)

FI (2件)：

G01B 11/00 B , G01C 3/06 110 A

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平2-027207
特開平3-291512
特開平2-278111

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