特許
J-GLOBAL ID：201103075033352380
高開口率及び高透過率を持つ液晶表示装置並びにその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人共生国際特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-237566
公開番号（公開出願番号）：特開2000-089255
特許番号：特許第3742836号
出願日： 1999年08月24日
公開日（公表日）： 2000年03月31日
請求項（抜粋）：
【請求項1】下部基板の上にゲートバスライン及び共通信号線を形成する工程と、
前記ゲートバスライン及び共通信号線が形成されたガラス基板の上にゲート絶縁膜を形成する工程と、
前記ゲートバスラインを含むゲート絶縁膜の所定部分にチャンネル層を形成する工程と、
前記チャンネル層の両側とオーバーラップするようにソース、ドレイン電極及び前記ゲートバスラインと垂直をなすデータバスラインを形成する工程と、
前記共通信号線の所定部分が露出するようにゲート絶縁膜をエッチングする工程と、
前記露出した共通信号線とコンタクトするように前記ゲート絶縁膜の上のITO膜を蒸着し、所定部分をパターニングし、カウンタ電極を形成する工程と、
前記カウンタ電極が形成されたゲート絶縁膜の上に保護膜を蒸着する工程と、
前記ドレイン電極の所定部分が露出するように保護膜をエッチングする工程と、
前記露出したドレイン電極とコンタクトするように保護膜の上にITO膜を蒸着し、前記カウンタ電極とオーバーラップしてフリンジフィールドを形成できるようにITO膜を所定部分パターニングし、画素電極を形成する工程とを含むことを特徴とする高開口率及び高透過率を持つ液晶表示装置の製造方法。
IPC (2件)：
G02F 1/1343 ( 200 6.01)
, G02F 1/1368 ( 200 6.01)
