特許
J-GLOBAL ID:201103075204339116

基板処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高山 宏志
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-162562
公開番号(公開出願番号):特開2000-353648
特許番号:特許第3495292号
出願日: 1999年06月09日
公開日(公表日): 2000年12月19日
請求項(抜粋):
【請求項1】 基板に対して複数工程からなる処理を施す基板処理装置であって、前記複数の工程に対応して各々基板に対して所定の処理を施す複数の処理機構と、前記複数の処理機構のそれぞれに対して基板を搬入または搬出する搬送機構とを具備し、前記複数の処理機構は、空間の周囲に放射状に配置され、前記搬送機構は、前記空間に設けられるとともに、前記複数の処理機構のそれぞれの搬入出口を介してその中にアクセス可能なように前記空間に設けられたループ状をなすレールに沿って移動することを特徴とする基板処理装置。
IPC (4件):
H01L 21/027 ,  G03F 7/16 502 ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/68
FI (7件):
G03F 7/16 502 ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/68 A ,  H01L 21/30 564 C ,  H01L 21/30 502 J ,  H01L 21/30 567 ,  H01L 21/30 569 D
引用特許:
審査官引用 (1件)

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