特許
J-GLOBAL ID：201103075295504220

ウェーハ洗浄装置およびウェーハ洗浄方法

発明者：
坂田 正雄

坂田 正雄 について


出願人/特許権者：
株式会社半導体先端テクノロジーズ

株式会社半導体先端テクノロジーズ について


代理人 (1件)： 高田 守 (外2名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-293638
公開番号（公開出願番号）：特開2001-237302
特許番号：特許第3483842号
出願日： 2000年09月27日
公開日（公表日）： 2001年08月31日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 それぞれウェーハを収納する第1の収納ケース又は第2の収納ケースから複数のウェーハを同時に抜き出すウェーハ移載用ハンドを有するウェーハ移載用ロボットと、水平方向の第1のウェーハ保持用棚を所定間隔をおいて垂直方向に複数有し、前記移載ロボットから移載される前記第1の収納ケースからのウェーハを受け取る第1のウェーハ保持受け台と、水平方向の第2のウェーハ保持用棚を所定間隔をおいて垂直方向に複数有し、前記移載ロボットから移載される前記第2の収納ケースからのウェーハを受け取る第2のウェーハ保持受け台とを備え、前記第1のウェーハ保持受け台の近傍に前記第2のウェーハ保持受け台を配置して、 第1のウェーハ保持用棚と前記第2のウェーハ保持用棚とを垂直方向に交互に位置させるようにするとともに、前記第1のウェーハ保持受け台に対して前記第2のウェーハ保持受け台を移動させることにより前記第1のウェーハ保持用棚と第2のウェーハ保持用棚との間隔を可変にしたことを特徴とするウェーハ洗浄装置。
IPC (2件)：
H01L 21/68 ,  H01L 21/304 648
FI (4件)：
H01L 21/68 N ,  H01L 21/68 A ,  H01L 21/304 648 C ,  H01L 21/304 648 D
引用特許：
出願人引用 (3件)

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