特許

J-GLOBAL ID：201103076078594845

被処理体の載置装置及びプラズマ処理装置

発明者： 輿石 公 ,  檜森 慎司
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 小原 肇
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-216552
公開番号（公開出願番号）：特開2002-033376
特許番号：特許第4559595号
出願日： 2000年07月17日
公開日（公表日）： 2002年01月31日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 被処理体を載置する冷却機構を内蔵した載置台と、この載置台の載置面の外周縁部に配置されたフォーカスリングとを備えた被処理体の載置装置において、上記被処理体を静電力で上記載置面に吸着する第1の静電吸着手段と、上記フォーカスリングを上記第1の静電吸着手段よりも大きい静電力で上記載置面の上記外周縁部に吸着する第2の静電吸着手段と、を設けたことを特徴とする被処理体の載置装置。

IPC (5件)：

H01L 21/683 ( 200 6.01) ,  C23C 16/458 ( 200 6.01) ,  H01L 21/205 ( 200 6.01) ,  H02N 13/00 ( 200 6.01) ,  B23Q 3/15 ( 200 6.01)

FI (5件)：

H01L 21/68 R ,  C23C 16/458 ,  H01L 21/205 ,  H02N 13/00 D ,  B23Q 3/15 D

引用特許：

審査官引用 (2件)

• プラズマ処理装置用基板ホルダー
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-166719   出願人：アネルバ株式会社
• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-100934   出願人：株式会社神戸製鋼所