特許
J-GLOBAL ID:201103076405449307
半導体デバイス
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
橋爪 健
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-264885
公開番号(公開出願番号):特開2002-076356
特許番号:特許第4089858号
出願日: 2000年09月01日
公開日(公表日): 2002年03月15日
請求項(抜粋):
【請求項1】 酸化亜鉛ZnO、酸化カドミウムCdO、ZnOにIIB元素若しくはIIA元素若しくはVIB元素を加えた化合物又は混合物の内いずれかを用い、3d遷移金属元素又は希土類をドープした透明チャネル層と、
透明導電性材料、透明導電体、又は、透明でない電極材料を、その全部又は一部に用いた、ソース及びドレイン及びゲートと、
前記透明チャンネル層が形成されるための絶縁性基板
を備えた半導体デバイス。
IPC (6件):
H01L 29/786 ( 200 6.01)
, H01L 21/8242 ( 200 6.01)
, H01L 27/108 ( 200 6.01)
, H01L 21/331 ( 200 6.01)
, H01L 29/732 ( 200 6.01)
, H01L 33/00 ( 200 6.01)
FI (4件):
H01L 29/78 618 B
, H01L 27/10 651
, H01L 29/72 P
, H01L 33/00 J
引用特許:
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