特許
J-GLOBAL ID:201103076453036391

発光装置、およびプロジェクター

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 布施 行夫 ,  大渕 美千栄 ,  永田 美佐
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-266221
公開番号(公開出願番号):特開2011-114006
出願日: 2009年11月24日
公開日(公表日): 2011年06月09日
要約:
【課題】発光素子、および出射光を反射させる反射面の位置合わせを高精度で行うことができる発光装置を提供する。【解決手段】発光装置1000では、溝部142が形成されたベース140と、ベース140に支持され、少なくとも一部が溝部142に埋まっているサブマウント150と、サブマウント150に支持され、互いに反対方向に進行する第1出射光L1および第2出射光L2を出射する発光素子100と、第1出射光L1を反射させる第1反射面172と、第2出射光L2を反射させる第2反射面174と、を含み、第1反射面172は、第1出射光L1の進行方向に対して傾いたベース140の第1面144に形成され、第2反射面174は、第2出射光L2の進行方向に対して傾いたベース140の第2面146に形成され、第1反射面172によって反射される第1反射光L3と、第2反射面174によって反射される第2反射光L4とは、同じ方向に進行する。【選択図】図2
請求項(抜粋):
溝部が形成されたベースと、 前記ベースに支持され、少なくとも一部が前記溝部に埋まっているサブマウントと、 前記サブマウントに支持され、互いに反対方向に進行する第1出射光および第2出射光を出射する発光素子と、 前記第1出射光を反射させる第1反射面と、 前記第2出射光を反射させる第2反射面と、 を含み、 前記第1反射面は、前記第1出射光の進行方向に対して傾いた前記ベースの第1面に形成され、 前記第2反射面は、前記第2出射光の進行方向に対して傾いた前記ベースの第2面に形成され、 前記第1反射面によって反射される第1反射光と、前記第2反射面によって反射される第2反射光とは、同じ方向に進行し、 前記ベースの熱伝導率は、前記サブマウントの熱伝導率より大きく、 前記サブマウントの熱伝導率は、前記発光素子の熱伝導率より大きい、発光装置。
IPC (2件):
H01L 33/60 ,  F21S 2/00
FI (3件):
H01L33/00 432 ,  F21S2/00 375 ,  F21S2/00 340
Fターム (11件):
3K243AA01 ,  3K243AC06 ,  3K243BB06 ,  3K243BE01 ,  3K243CC04 ,  5F041AA06 ,  5F041CA14 ,  5F041DA19 ,  5F041DA36 ,  5F041EE23 ,  5F041FF16
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 発光装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2009-179749   出願人:セイコーエプソン株式会社
  • 光ヘッド装置の光源装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2000-220710   出願人:株式会社三協精機製作所

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