電子放出素子、電子源及び画像形成装置の製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：渡辺敬介
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-042435
公開番号（公開出願番号）：特開2000-243224
特許番号：特許第3544135号
出願日： 1999年02月22日
公開日（公表日）： 2000年09月08日
請求項（抜粋）：

【請求項1】電子放出素子の製造方法であって、一対の素子電極間に跨るように、貴金属及び貴金属以外の金属酸化物を含有する導電性膜を形成する工程と、該導電性膜に通電フォーミング処理を行う工程と、該通電フォーミング処理の後に行う活性化工程と、を有しており、前記貴金属は、Au、Pt、Agの中から選択された少なくとも1つと、Pdとを含む、ことを特徴とする電子放出素子の製造方法。

IPC (3件)：