特許

J-GLOBAL ID：201103076943798133

アセタール化合物及びその製造方法

発明者： 渡辺 武 ,  金生 剛 ,  長谷川 幸士 ,  西 恒寛 ,  中島 睦雄 ,  橘 誠一郎 ,  畠山 潤
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (4件)： 小島 隆司 ,  重松 沙織 ,  小林 克成 ,  石川 武史
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-219444
公開番号（公開出願番号）：特開2002-206009
特許番号：特許第3956089号
出願日： 2001年07月19日
公開日（公表日）： 2002年07月26日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 下記一般式(1)で示されるアセタール化合物。 (式中、Rは炭素数1〜6の直鎖状、分岐状又は環状アルキル基、Xは一つの水素原子が水酸基又はアセトキシ基で置換されていてもよい-(CH2)m-を表す。kは0又は1、mは1≦m≦8を満たす整数、nは2又は3である。)

IPC (5件)：

C07D 317/12 ( 200 6.01) ,  C07D 317/20 ( 200 6.01) ,  C07D 317/24 ( 200 6.01) ,  C08F 32/08 ( 200 6.01) ,  G03F 7/039 ( 200 6.01)

FI (5件)：

C07D 317/12 ,  C07D 317/20 ,  C07D 317/24 ,  C08F 32/08 ,  G03F 7/039 601

引用特許：

審査官引用 (1件)

• フォトレジスト架橋単量体、フォトレジスト架橋剤、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法、及び半導体素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-043101   出願人：現代電子産業株式会社

引用文献：

審査官引用 (1件)

• J.Am.Chem.Soc., 1982, 104,3,p877-879