特許

J-GLOBAL ID：201103078240228397

スパッタリングターゲット材料及びその製造方法

発明者： 西 誠治 ,  草道 龍彦 ,  大西 隆 ,  水野 雅夫 ,  高原 輝行 ,  末光 利久 ,  吉川 一男
出願人/特許権者： 株式会社神戸製鋼所
代理人 (1件)： 明田 莞
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-039952
公開番号（公開出願番号）：特開平11-315373
特許番号：特許第3081602号
出願日： 1999年02月18日
公開日（公表日）： 1999年11月16日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 内在する介在物の最大長さが全て20μm 以下であるアルミニウム又はアルミニウム合金よりなるスパッタリングターゲット材料。

IPC (4件)：

C23C 14/34 ,  B22D 23/00 ,  B22F 9/08 ,  C22C 21/00

FI (5件)：

C23C 14/34 A ,  B22D 23/00 E ,  B22F 9/08 A ,  B22F 9/08 S ,  C22C 21/00 A

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 高融点金属含有Al基合金鋳塊のスプレーフォーミング法による製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-059344   出願人：株式会社神戸製鋼所
• スパッタリング用シリサイドターゲット及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-130113   出願人：株式会社ジャパンエナジー