特許

J-GLOBAL ID：201103078440065727

超純水の精製方法及び精製装置

発明者： 森田 博志
出願人/特許権者： 栗田工業株式会社
代理人 (1件)： 内山 充
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-045395
公開番号（公開出願番号）：特開2000-237740
特許番号：特許第4058832号
出願日： 1999年02月23日
公開日（公表日）： 2000年09月05日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 超純水を、シリコン基板の破砕物を母体にしてその表面をベアシリコン状に調整した粒状シリコンと粒状シリコン酸化物とに接触させることを特徴とする超純水の精製方法。

IPC (2件)：

C02F 1/28 ( 200 6.01) ,  B01J 20/02 ( 200 6.01)

FI (2件)：

C02F 1/28 A ,  B01J 20/02 A

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特開昭56-018427
  
• 超純水の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-318464   出願人：直江津電子工業株式会社
• 特開平4-147060
  

審査官引用 (3件)

• 特開昭56-018427
  
• 超純水の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-318464   出願人：直江津電子工業株式会社
• 特開平4-147060