特許
J-GLOBAL ID:201103078750212304
粒状半導体材料洗浄装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (7件):
志賀 正武
, 高橋 詔男
, 渡邊 隆
, 青山 正和
, 鈴木 三義
, 西 和哉
, 村山 靖彦
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-193244
公開番号(公開出願番号):特開2002-001244
特許番号:特許第3794247号
出願日: 2000年06月27日
公開日(公表日): 2002年01月08日
請求項(抜粋):
【請求項1】 粒状半導体材料を洗浄液で洗浄する装置であって、
前記粒状半導体材料を前記洗浄液と共に貯留可能な筒状容器と、
中心軸を水平又は傾斜させた状態で該中心軸を中心に前記筒状容器を回転させる容器回転機構とを備えており、
前記筒状容器の開口部から溢れ出る前記洗浄液を回収すると共に該洗浄液中に含まれる異物を取り除き、この洗浄液を筒状容器に戻す洗浄液循環機構を備えており、
前記洗浄液循環機構は、溢れ出た前記洗浄液から前記粒状半導体材料を分離して回収し、該粒状半導体材料を前記筒状容器に戻す材料再投入機構を備えていることを特徴とする粒状半導体材料洗浄装置。
IPC (2件):
B08B 3/08 ( 200 6.01)
, C30B 29/06 ( 200 6.01)
FI (2件):
B08B 3/08 A
, C30B 29/06 D
引用特許:
審査官引用 (4件)
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微粒洗浄装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-283885
出願人:株式会社トクヤマ
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特開昭58-204184
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加工部品の洗浄装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-281137
出願人:日搬工業株式会社
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