特許
J-GLOBAL ID：201103079984710177
酸化ニッケル微粉末及びその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
山本 正緒
, 辻川 典範
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-192767
公開番号（公開出願番号）：特開2011-042541
出願日： 2009年08月24日
公開日（公表日）： 2011年03月03日
要約：
【課題】 塩素等の不純物品位が低く且つ粒径が微細であり、電子部品材料として好適な酸化ニッケル微粉末、及びその工業的に安定な製造方法を提供する。【解決手段】 塩化ニッケル水溶液をアルカリで中和し、得られた水酸化ニッケルを500〜800°Cの温度で熱処理して酸化ニッケルとする。得られた酸化ニッケルをスラリー化し、湿式ジェットミルを用いて解砕すると同時に洗浄する。得られる酸化ニッケル微粉末は、塩素品位が100質量ppm以下及びナトリウム品位が100質量ppm以下で、比表面積が6m2/g以上である。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
ニッケル塩水溶液をアルカリで中和して水酸化ニッケルを得る工程Aと、得られた水酸化ニッケルを非還元性雰囲気中において500〜800°Cで熱処理して酸化ニッケルとする工程Bと、得られた酸化ニッケルをスラリー化し、スラリー状態にて解砕メディアを用いることなく酸化ニッケルを解砕すると同時に洗浄する工程Cとを含むことを特徴とする酸化ニッケル微粉末の製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (5件)：
4G048AB02
, 4G048AB05
, 4G048AC03
, 4G048AD03
, 4G048AE06
