特許
J-GLOBAL ID：200903021411595865

酸化ニッケルの製造方法

発明者：
堂前 京介

堂前 京介 について

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渋谷 英香

渋谷 英香 について

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新田 芳明

新田 芳明 について


出願人/特許権者：
株式会社田中化学研究所

株式会社田中化学研究所 について


代理人 (4件)： 山崎 宏 ,  田中 光雄 ,  大畠 康 ,  大森 忠孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-315828
公開番号（公開出願番号）：特開2009-137795
出願日： 2007年12月06日
公開日（公表日）： 2009年06月25日
要約：
【課題】アルカリ金属含有量が含有されている遷移金属(Niも含む)に対して100ppm以下である、酸化ニッケルを、有毒ガスを発生させることなく、得ることができる、製造方法を、提供すること。【解決手段】ニッケル以外の第1周期遷移金属を1種類以上含有しており、且つ、中和処理に用いたアルカリ金属が残存している、水酸化ニッケルを含む前駆体を、原料として用い、上記前駆体を、300〜1000°Cで加熱処理することによって、粒子の平均細孔径が25Å以上であり且つ粒子中の気孔容積が0.001〜0.20cm3/gであり、また、結晶系がFm3m主体である、酸化ニッケルを、生成する、加熱工程と、加熱工程で得られた酸化ニッケルを、水洗処理する、水洗工程と、を有することを特徴としている。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
ニッケル以外の第1周期遷移金属を1種類以上含有しており、且つ、リチウム以外のアルカリ金属をニッケル及び含有している上記第1周期遷移金属に対して100ppm以下の割合で含有している、酸化ニッケルを、製造する方法であって、 ニッケル以外の第1周期遷移金属を1種類以上含有しており、且つ、中和処理に用いたアルカリ金属が残存している、水酸化ニッケルを含む前駆体を、原料として用い、 上記前駆体を、300〜1000°Cで加熱処理することによって、BJH法で求められた、粒子の平均細孔径が25Å以上であり且つ粒子中の気孔容積が0.001〜0.20cm3/gであり、また、結晶系がFm3m主体である、酸化ニッケルを、生成する、加熱工程と、 加熱工程で得られた酸化ニッケルを、水洗処理する、水洗工程と、を有することを特徴とする酸化ニッケルの製造方法。
IPC (1件)：
C01G 53/00
FI (1件)：
C01G53/00 A
Fターム (30件)：
4G048AA04 ,  4G048AB02 ,  4G048AB05 ,  4G048AC06 ,  5H018AA06 ,  5H018AS02 ,  5H018AS03 ,  5H018BB01 ,  5H018BB13 ,  5H018BB16 ,  5H018EE12 ,  5H018EE13 ,  5H018HH04 ,  5H018HH05 ,  5H018HH08 ,  5H050AA02 ,  5H050AA07 ,  5H050AA08 ,  5H050AA15 ,  5H050BA17 ,  5H050CA08 ,  5H050FA15 ,  5H050FA17 ,  5H050FA19 ,  5H050GA02 ,  5H050GA12 ,  5H050GA14 ,  5H050HA01 ,  5H050HA07 ,  5H050HA14
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (4件)
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